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耐高温碱可剥雷射离型层

耐高温碱可剥雷射离型层

产品描述:产品料号: HLN00-PB

产品描述


适用于玻璃载具的暂时接着制程,尤其是在RDL first制程。雷射制程中搭配剥离涂层材料,可将制程后的硅芯片轻易地从玻璃载具上分离,且可用碱溶液将残胶去除。


产品特色


  • 高附着性-与金属层(Ti/Cu)具有良好附着性

  • 高耐化性-可耐光阻剂、金属蚀刻液以及有机溶剂

HLN00-PB 流程.jpg


产品特性


项目 Item

条件 Condition

可剥聚酰亚胺

HLN00-PB

颜色型态Exterior color

-

半透明液态

去膜液 Stripping solution

-

4% NaOH/TMAH-DMSO

解黏波段 De-bondwavelength


355 nm

附着性 Adhesion

百格测试  Cross-hatch tape test

5B

热稳定性 Thermal stability

高温烘烤 390℃ / 60 min

无破裂/无软化

耐化性Chemical resistance

浸泡 NMP, 90℃/10 min

膜厚无损失 No peeling

玻璃转移温度Tg


370

热膨胀系数 CTE

50℃~200℃/9 min

17 ppm/K

操作厚度 Thickness


10~15 um


如需产品相关数据或详细规格,请与我们联系。

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