产品应用
在半导体封装技术,特别是在扇出型晶圆级封装(Fan-Out Wafer-Level Packaging,FOWLP)和重分布制程(Redistribution Layer Process,RDL)中,PSPBO作为一种光阻材料,在层间介电材料、应力缓冲层和保护层的应用发挥着重要作用。在这些先进制程中,PSPBO的低热膨胀系数有助于提高芯片在温度波动下的稳定性,其高机械强度增强了芯片在物理压力下的耐用性,而低介电常数则确保了在高速数据传输过程中的低信号损耗。这些特性综合作用,大大提升了芯片在各种环境条件下的性能和长期可靠性。
产品特色
• 低温固化
• 低热膨胀系数
• 高显影分辨率:膜厚/via=5um/5um , 10um/10um
• 低介电损失:Df <0.01@10GHz
• 水性溶剂显影
• 优异耐化性:能有效抵抗多种有机溶剂、无机酸、碱溶液的侵蚀
产品特性
测试项目 | 单位 | WLPT01-B | |
曝光/显影 /分辨率 | 曝光能量(Exposure dose) | mJ/cm2 | 350~550 |
显影液 (Developer) | - | 2.38% TMAH | |
分辨率(Resolution) 膜厚/via | um | 10/5 ; 10/10 | |
固化条件 | 固化温度(Cure temperature) | ℃ | 250~300 |
热性质 | 玻璃转移温度(Tg) | ℃ | >300 |
热膨胀系数(CTE) | ppm/K | <55 |
如需产品相关数据或详细规格,请与我们联系。
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